【技術文章】化學鍍的過程 2013-12-02

化學鍍通常稱為無電源電鍍，它是利用還原劑使金屬鹽中的金屬離子還原成原子狀態(tài)并在4片表面上沉積下來從而獲得膜層的一種方法.它與化學沉積法同屬于不通電而靠化學反應沉積的鍍膜方法。兩者的區(qū)別在于:化學鍍的還原反應必須在催化劑的作用下才能進行，而且沉積反應只發(fā)生在鍍...

【技術文章】什么是薄膜的化學溶液制備技術 2013-11-22

薄膜的化學溶液制備技術指的是在溶液中利用化學反應或電化學反應等化學方法在基片表面沉積薄膜的一種技術。它包括化學反應沉積、溶膠一凝膠法、陽極氧化、電鍍等。 這種技術不需要真空環(huán)境、所需設備少，可在各種基體表面成膜,原材料較易獲得，因而在電子元件，表面涂覆...

【技術文章】濺射鍍膜的基本原理 2013-11-18

濺射鍍膜的基本原理是利用帶電荷的離子在電場中加速后其有一定動能的特點，將離子引向欲被濺射的靶電極。在離子能量滿足一定條件的情況下，入射的離子在與靶原子的碰撞過程中使靶原子從表面濺射出來，被濺射出來的原子帶有一定的動能，并且會沿著一定的方向射向基片，從而實現(xiàn)在...

【技術文章】薄膜制備方法 2013-11-14

按成膜機理分類，薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學方法兩大類。 物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)是利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或在受到粒子束轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)從原物質(zhì)到薄膜的可控的...

【技術文章】什么是真空蒸發(fā)鍍膜 2013-11-14

真空蒸發(fā)鍍膜(簡稱真空蒸鍍)是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中欲形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成燕氣流，人射到固體(一般為襯底或基片)表面，凝結形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸鍍法的主要物理過程是通過加熱使蒸發(fā)材料變成氣態(tài)，故該法又稱為熱蒸發(fā)法。這是...

【技術文章】薄膜開關的構成及應用、特點 2013-11-07

薄膜開關的構成：是由具有一定彈性的絕緣材料層組成的一種多層結構（平面）型（非制鎖）按鍵開關，薄膜開關主要由面膜、面膜背膠、上線路、隔離層、下線路和背膠組成（預埋發(fā)光管及電阻的產(chǎn)品還有另有單獨一線路層）。薄膜開關的應用：因其同時具有按鍵開關、顯示窗、指示燈、功...

【技術文章】薄膜開關與絲網(wǎng)印刷的應用 2013-11-04

薄膜開關是以絲網(wǎng)打印作為首要技能手法的，為數(shù)不多且能服務于高科技范疇的絲網(wǎng)打印的獨立商品之一。 薄膜開關除具有傳統(tǒng)面板具有的裝修功用、符號功用；具有開關元件的開關及操作功用之外，薄膜開關還具有銜接開關元件與主機電路的開關連線、引出線(亦即開關電路)功用，具...

【技術文章】薄膜開關的主要參數(shù) 2013-10-30

額定電壓：是指開關在正常工作時所允許的安全電壓. 加在開關兩端不同類型的開關(19張)的電壓大于此值，會造成兩個觸點之間打火擊穿。額定電流：指開關接通時所允許通過的*安全電流，當超過此值時，開關的觸點會因電流過大而燒毀。絕緣電阻：指開關的導體部分與絕緣部分...

【技術文章】薄膜開關也稱輕觸開關 2013-10-30

薄膜開關也稱輕觸開關輕觸開關，使用時輕輕點按開關按鈕就可使開關接通，當松開手時開關即斷開，其內(nèi)部結構是靠金屬彈片受力彈動來實現(xiàn)通斷的。如領弈的IKI系列輕觸開關。輕觸開關由于體積小重量輕在電器方面得到廣泛的應用如：影音產(chǎn)品、.數(shù)碼產(chǎn)品、遙控器、通訊產(chǎn)品、家用...

【技術文章】開關的基本結構 2013-10-24

最簡單的開關有二片名叫“接點”的金屬，二接點接觸時使電流形成回路，二接點不接觸時電流開路。選用接點金屬時需考慮其對抗腐蝕的程度，因為大多數(shù)金屬氧化后會形成絕緣的氧化物，使接點無法正常工作。選用接點金屬也需考慮其電導率、硬度、機械強度、成本及是否有毒等因素。 ...